안녕하세요 🙂
오늘은 반도체 산업에 적용 가능한 “Titration Application”을 소개하고자 합니다.
출처 : MetrohmProcessAnalytics 왼쪽 : 2060ProcessAnalyzer 오른쪽 : 2035ProcessAnalyzer
Application 테마 “Develop(현상액) 중 TMAH(Tetramethylammonium Hydroxide) 모니터링”
반도체 현상액 중 TMAH 분석 ◈ 측정장비 : 2060 Process Analyzer, 2035 Process Analyzer (제조사 : Metrohm) ◈ 측정방법 : Titration-pH 전극 ◈ 측정항목 : TMAH(Tetramethylammonium Hydroxide) ◈ 측정범위 : 2.38~2.62% TMAH
개요 반도체 생산 공정에서 원료 또는 사용되는 화학물질의 순도는 중요합니다.
이러한 물질에 불순물이 극히 소량이라도 존재한다면 물질의 전기적 특성, 생산된 제품의 품질에 큰 영향을 미칠 수 있기 때문에 고순도의 화학물질을 사용해야 합니다.
반도체 현상 공정에서 사용되는 현상액을 모니터링하면서 현상액 농도를 조절하면 품질 높은 제품과 효율적인 공정 운영을 기대할 수 있습니다.
현상 공정 설명 포토 리소그래피(photolithography) 공정에서 실리콘 웨이퍼에 감광성 물질인 포토레지스트(photoresist)를 도포한 후 선택적으로 빛에 노출될 수 있는 포토마스크(photomask)를 통해 빛을 조사합니다.
일정 시간 광에 노출되면 웨이퍼에 원하는 패턴 및 회로(photomask)가 인쇄됩니다.
인쇄가 완료된 후 포토레지스트를 제거합니다.
TMAH는 포토레지스트 현상액의 알칼리 성분으로 주로 2.38~2.62% 농도로 유지되어 사용됩니다.
TMAH 원액(25%)이 CCSS(Chemical Central Supplying System)에서 희석되어 공정 중 TMAH가 적절한 농도를 유지하도록 생산라인에 추가됩니다.
포토레지스터 잔류물을 포함하고 있는 이미 사용된 현상액은 송출하고 새로운 TMAH를 추가하여 현상액 중의 TMAH 농도를 일정하게 유지합니다.
현상공정에 온라인 분석기 적용 Metrohm 온라인 분석기를 이용하면 다음 이점이 있습니다.
적정 구성된 공정 분석기로 정확한 TMAH 분석이 가능합니다.
현상액으로 TMAH 농도를 안정적으로 모니터링하고 유지할 수 있습니다.
독성이 강한 TMAH에 작업자가 노출되는 상황을 최소화할 수 있습니다.
현상 공정 사진
출처 : MetrohmProcess Analytics
포토 리소그래피 공정 다이어그램입니다.
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